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Heterointerface effects on the charging energy of the shallow D? ground state in silicon: Role of dielectric mismatch

机译:异质界面对浅层D 2的充电能量的影响。硅中的基态:介电失配的作用

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摘要

Donor states in Si nanodevices can be strongly modified by nearby insulating barriers and metallic gates. Experimental results indicate a strong reduction in the charging energy of isolated As dopants in Si nonplanar field effect transistors relative to the bulk value. By studying the problem of two electrons bound to a shallow donor within the effective mass approach, we find that the measured reduction in the charging energy (measurements also presented here) may be due to a combined effect of the insulator screening and the proximity of metallic gates.
机译:Si纳米器件中的施主态可以通过附近的绝缘势垒和金属栅强烈改变。实验结果表明,相对于体值,Si非平面场效应晶体管中隔离的As掺杂剂的充电能量大大降低。通过研究有效质量方法中两个电子绑定到浅施主上的问题,我们发现测得的充电能量降低(此处也提供了测量结果)可能是由于绝缘体屏蔽层和金属的邻近性共同作用的结果。盖茨。

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